曝光機(Mask Aligner/Stepper)廣泛應用於微米範圍結構的光刻(lithography)製程，如先進半導體封裝(bump/RDL)、微米光學元件、高階被動元件、LED、MEMS等。在曝光機中，其光源系統對於製作高品質的線路/圖案至為關鍵，其照射(Illustration)均勻度、照射角度的分佈(angular distribution of radiation)都對曝光品質有很大影響，而照射強度則決定了曝光時間的長短。350-450 nm光譜範圍傳統上是使用汞燈光源，然而這種光源存在許多缺點，導致它們已經過時，諸如體積龐大；含汞，不環保；電光功率轉換效率低；約需30分鐘的預熱時間，因此電源需要長開；燈管使用壽命短，約1000 小時。
隨著LED技術的進展，近年來市場上出現了相關波長範圍的高功率LED，為曝光機實現更佳曝光性能打開了新的大門。但由於汞燈光源的使用數十年來已建立了一套可運行的產業鏈生態，包含各種光學元件的配套、光阻(光刻膠)的配方、製程的優化等等，因而對於新光源技術的導入總存在是否匹配現有生態供應鏈的顧慮。
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